/currency.svg){kind=small}
/heart.svg){kind=small}
/user.svg){kind=small}
/cart.svg){kind=small}
Selfie Project NoStress pleťová maska 10 g
Kod: 1905505dnů:2
Data i sposób dostawy
Producent:
Maurissé Sp. z o.o.
:
Selfie Project® (web)
Pleťová maska #NoStress – vyrovnává povrch pleti, odstraňuje již existující skvrny a zabraňuje vznikczytaj więcej
/heart.svg){kind=small}
/compare.svg){kind=small}
Wybierz pakiet ze zniżką
Rabaty ilościowe
/envelope.svg){kind=small}
Zapytanie
/bell.svg){kind=small}
oglądać
/share.svg){kind=small}
Dzielić
PARAMETRY
Producent:
Kod:
1905505
ean:
5902853040118
Stan:
Výrobce:
Maurissé Sp. z o.o.
Balení:
1
Určení:
Normální
Opis Selfie Project NoStress pleťová maska 10 g
Pleťová maska #NoStress – vyrovnává povrch pleti, odstraňuje již existující skvrny a zabraňuje vzniku nových. Zároveň důkladně čistí a stahuje póry a zanechává pleť matnou a viditelně hladší. Bioaktivní uhlí spojenec v boji proti nedokonalostem! Má antibakteriální vlastnosti, pohlcuje nečistoty, zmatňuje pleť a stahuje a čistí póry. Minerální kaolinový jíl důkladně čistí pleť a reguluje produkci mazu. Odstraňuje toxiny, remineralizuje pleť a přináší zklidňující účinek. Kyselina mandlová 1% má antibakteriální a exfoliační vlastnosti. Reguluje buněčnou obnovu, zlepšuje strukturu a barvu pleti, zklidňuje zanícení, působí na skvrny a akné, hydratuje a vyhlazuje pleť.
- důkladně čistí a stahuje póry
- s bioaktivním uhlím, kyselinou mandlovou a minerálním kaolinovým jílem
- hydratuje a vyhlazuje pleť
| Určení: | Normální |
Naneste masku na očištěnou pokožku, vyhněte se okolí očí a rtů. Nechte působit 10-15 minut. Opláchněte teplou vodou a použijte náš hydratační matující krém. Pamatuj: neustále se starej o svou pleť.
'
Aqua, Kaolin, Glycerin, Magnesium Aluminum Silicate, Betaine, Methylpropanediol, Mandelic Acid, Charcoal Powder, Allantoin, Aloe Barbadensis Leaf Juice, Panthenol, Eucalyptus Globulus Leaf Oil, Xanthan Gum, Phenoxyethanol, Ethylhexylglycerin, Potassium Sorbate, Sodium Benzoate, Diazolidinyl Urea.
